为什么选择非接触式三维光学轮廓仪，该设备有什么的优势？
为什么要选择非接触式三维光学轮廓仪呢？首先，它采用了先进的MWLI®技术，能够进行高精度的非接触式3D形貌测量，避免了传统接触式测量可能对被测物体造成的损伤。这对于一些对表面质量要求极高的物体，如非球面镜片、球面、平面和自由曲面等，尤为重要。
该设备的优势众多。其一，它具有极高的测量精度，再现性≤±50nm（3σ），能够满足您对高精度测量的需求。其二，它具有出色的测量稳定性，Power变化＜±20nm（3σ），PV变化＜±5nm（3σ），确保测量结果的可靠性。其三，它的测量速度快，例如，测量直径为30mm、Roc为60mm、100points/mm²的物体仅需1:45分钟，大大提高了工作效率。
LUPHOScan260/420HD还具有很强的灵活性。它可以测量各种不同的表面类型，包括透明材料、金属零件和磨砂表面等。对于不常见的表面形状，如平顶或有拐点的轮廓，也能轻松应对。最大测量直径可达420mm，能够满足各种尺寸物体的测量需求。
该系统还具备功能强大的软件模块，LUPHOSoft软件模块可提供对复杂的或不连续光学元件的直接测量，能够对各种特殊形状进行3D面形测量，并包含复杂的数据分析工具，方便您对测量数据进行深入分析。
非接触式轮廓仪LUPHOScan260/420HD凭借其高精度、稳定性、测量速度快和灵活性等优势，为您提供了一种可靠、高效的测量解决方案。选择它，就是选择了品质与卓越，将为您的工作带来极大的便利和价值。
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半导体光刻物镜的精度对于芯片制造有哪些具体影响？
在当今科技高速发展的时代，芯片宛如现代社会的“工业粮食”，广泛应用于从智能手机、电脑到汽车、工业控制等诸多领域，深刻改变着人们的生活与生产方式。而在芯片制造这一复杂且精密的工艺链条中，半导体光刻物镜的精度扮演着举足轻重、堪称“命门”的关键角色，诸多环节与之紧密相连，牵一发而动全身。
2024-11-25
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什么是微波光子学？微波光子学的应用和特点
在信息技术迅猛发展的今天，微波光子学作为一门融合微波工程和光子学的新兴交叉学科，正逐渐在通信技术领域崭露头角。它利用光子技术处理微波频率范围内的信号，为高频信号的生成、传输、处理和分析提供了创新的解决方案。本文将探讨微波光子学的关键应用、技术特点，并探讨它是否预示着通信技术的未来。
2024-11-25
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光学前沿的新进展：矢量纯四次孤子分子光纤激光器研究新进展
在光学领域，孤子（soliton）是一种特殊的光脉冲，它在非线性介质中传播时能够保持其形状不变。近年来，随着非线性光学和光纤激光器技术的发展，孤子的研究已经从传统的二次孤子扩展到了更高阶的孤子，如纯四次孤子。本文将概述矢量纯四次孤子分子光纤激光器的最新研究进展，这一领域的发展为光学通信、光逻辑系统和高分辨率光学等领域带来了新的机遇。
2024-11-25
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【光学前沿】阿尔托大学开创光涡旋新设计，推动光数据传输革命
在数据存储和传输需求日益增长的今天，寻找更高效的方法来编码和传输大量数据变得至关重要。阿尔托大学的最新研究成果为我们提供了一种创新的解决方案：通过在光纤中使用准晶体传输数据的光涡旋。这项突破性的设计方法不仅理论上可以创建任何类型的光涡旋，而且在实际应用中展示了极高的拓扑电荷，为光数据传输开辟了新的可能性
2024-11-22
